產(chǎn)品名稱

VGB-600-3HD薄膜電池制備系統(tǒng)

主要特點

1、配置三個靶槍，一個配套射頻電源通過轉換開關可以分別連接至任一靶頭，用于各類靶材的濺射鍍膜（靶槍可以根據(jù)客戶需要任何調換）。

2、可制備多種薄膜，應用廣泛。

3、體積小，操作簡便。

4、整機模塊化設計，真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設計，可根據(jù)用戶實際需要調整。

5、可根據(jù)用戶實際需要選擇電源，可以一個電源控制多個靶槍，也可多個電源單一控制靶槍（選配）。

6、可在手套箱內(nèi)進行實驗操作，更換各類易氧化的靶材用于鍍膜實驗。

技術參數(shù)

三靶磁控濺射部分

1、電源電壓：220V  50Hz

2、總功率：2.5KW

3、極限真空度：< E-6mbar（配合本公司機械泵設備使用可達到 E-3mbar）

4、工作溫度：RT-500℃，精度±1℃（可根據(jù)實際需要提升溫度）

5、靶槍數(shù)量：3個

6、靶槍冷卻方式：水冷

7、靶材尺寸：Ø2″，厚度0.1mm-5mm（因靶材材質不同厚度有所不同）

8、射頻濺射功率：300W/500W（可選）

9、載樣臺：Ø140mm

10、載樣臺轉速：1rpm-20rpm內(nèi)可調

11、保護氣體：Ar、N2等惰性氣體

12、進氣氣路：質量流量計控制2路進氣，1個流量為100 SCCM，1個流量為200 SCCM

手套箱部分

1、電源：單相AC110V-220V  50Hz/60Hz

2、殼體材料：304不銹鋼

3、手套箱腔體：1220mm×760mm×900mm

4、前級室：設有2個前級室，大前級室Ø360mm×600mm，小前級室Ø150mm×300mm

5、腔體環(huán)境：水含量<1ppm（20℃，1atm），氧含量<1ppm（20℃，1atm）

6、工作氣體：N₂、Ar、He等惰性氣體

7、控制氣體：壓縮空氣或惰性氣體

8、還原氣體：工作氣體和H₂的混合氣（如果凈化系統(tǒng)只有除水功能，還原氣體與工作氣體相同）

9、氣體凈化系統(tǒng)：德國BASF除氧材料、美國UOP高效吸水材料，凈化系統(tǒng)再生過程自動控制，自動除水、 除氧功能，可長期、持續(xù)維持氣體純度在水<1ppm、氧<1ppm

10、壓力控制系統(tǒng)：腔體氣壓可通過PLC觸摸屏自動控制，控制精度為±1Pa，也可通過腳踏開關進行手動控制

11、過濾系統(tǒng)：進、出氣端都裝有過濾器，過濾精度為0.3μm

12、控制系統(tǒng)：SIEMENS彩色觸摸屏（6寸），PLC控制系統(tǒng)，中英文雙語可切換；

水探頭采用美國GE品牌，0-1000ppm觸摸屏顯示，精度0.1ppm；

氧變送器采用美國AII品牌，0-1000ppm觸摸屏顯示，精度0.1ppm；

壓力傳感儀采用美國setra品牌，-2500-2500Pa觸摸屏顯示，精度±1Pa；

13、真空泵：采用英國EDWARDS品牌，抽速8.4m³/h-12m³/h

14、手套：美國NORTH品牌丁基合成橡膠

15、照明系統(tǒng)：飛利浦品牌熒光燈管

產(chǎn)品規(guī)格

三靶磁控濺射部分：500mm×560mm×660mm

手套箱部分：2300mm×1500mm×1900mm